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선택적 광열분해 아키텍처 참조 문서: 고주파 인모션 다이오드 레이저

SELECTIVE PHOTOTHERMOLYSIS ARCHITECTURE REFERENCE DOCUMENT: HIGH-FREQUENCY IN-MOTION DIODE LASER

EXECUTIVE SUMMARY
This document delineates the clinical engineering principles, performance architecture, and operational specifications of the High-Frequency In-Motion Diode Laser system. Designed to reconcile maximum thermolytic efficacy with uncompromised epidermal safety, the platform leverages a rapid pulse repetition rate and a proprietary in-motion delivery logic. By decoupling thermal relaxation time constraints from operator hand speed, the device enables homogeneous volumetric heating of follicular and vascular chromophores while maintaining a sub-threshold epidermal temperature. This whitepaper serves as the definitive technical reference for clinical procurement, biomedical engineering validation, and regulatory compliance assessment.

Selective Photothermolysis Architecture Reference Document: High-Frequency In-Motion Diode Laser details임상 건축이 시스템은 강화된 열 피로 저항을 위해 인듐이 없는 골드 주석 접합을 사용하는 밀폐형 전도 냉각 다이오드 레이저 스택을 통합합니다. 발진기-증폭기 구성은 정밀 이색성 조합기를 통해 755 nm 및 1064 nm에서 선택적 별개의 채널로 808 nm (우세한 발색단: 멜라닌 및 옥시헤모글로빈) 의 기본 파장을 전달합니다.고주파 드라이버 토폴로지는 5ms ~ 400ms 사이에서 조정 가능한 펄스 폭에서 2Hz ~ 25Hz의 반복 속도를 생성합니다. 이 빠른 펄싱 체제는 준연속 열 외피를 생성하여 등 또는 다리 전체 영역과 같은 넓은 표면적에 대한 처리 속도를 극대화합니다.인모션 딜리버리 로직단일 고 플루언스 펄스에 의존하는 종래의 고정식 스탬핑 기술과는 달리, 인 모션 알고리즘은 핸드피스 속도 (통합된 9축 관성 측정 유닛으로부터 유도된) 와 펄스 주파수를 연속적으로 상관시킨다. 시스템은 펄스 간 간격을 자동으로 조정하여 15-25% 중복 치료 트랙을 유지합니다.핸드피스 모션이 검증된 5mm/s 임계값 아래로 떨어지면 안전 연동 장치가 즉시 레이저 방출을 중단하여 표피 내 열 스태킹 및 블리스터 형성을 방지합니다.주요 징후이 장치는 2007/47/EC에 의해 개정된 Council Directive 93/42/EEC (의료기기 지침) 에 따라 완전한 적합성 평가를 수행합니다. 특정 인증에는 IEC 60825-1: 2014 (Class 4 Laser Product), IEC 60601-1 (General Electrical Safety), IEC 60601-2-22 (Surgical, Cosmetic, Therapeutic Laser Equipment) 가 포함됩니다. FDA 510 (k) 는 처방전 사용 에스테틱 레이저 시스템으로 제거되었습니다. ISO 14971: 2019에 대한 위험 관리. 모든 제조 시설은 ISO 13485: 2016 인증을 받았습니다.기술 사양

매개변수 사양
레이저 배지 갈륨-아르세나이드 (GaAs) 다이오드 스택
파장 (선택 가능) 755 nm/808 nm/1064 nm (± 5 nm)
최대 출력 전력 600 W (808 nm); 480 W (755 nm); 400 W (1064 nm)
플루언스 범위 1 – 120 J/cm ² (스팟 크기 및 펄스 폭에 따라 다름)
스팟 크기 (표준) 12 x 12mm 정사각형 (144mm ²)
스팟 크기 (선택 사항) 15 x 15mm (225mm ²), 6 x 6mm (36mm ²), 6mm 원형
펄스 반복률 1 – 25 Hz (연속 조정)
펄스 폭 범위 5ms – 400ms (1ms 증가)
냉각 방식 듀얼 스테이지 TEC 사파이어 접점 폐쇄 루프 물 순환 강제 공기
사파이어 플레이트 온도 -4°C ~ 20°C (비례 제어, ± 1°C 정확도)
인터페이스 표시 10.4 '' 산업용 정전식 터치스크린 (800×600)
전기 요구 사항 110-240VAC, 50/60Hz, 15A (피크 입력 1800VA)
치수 (메인 시스템) 420mm (가로) x 520mm (세로) x 1050mm (높이)
무게 (전체 조립) 38kg (84파운드)
작동 조건 주변 15°C – 30°C, 습도 30% – 75% 비응축

임상 프로토콜

제모 – 인모션 기법
– 플루언스 범위: 8-14 J/cm ² (상체: 액와, 비키니, 하체 플루언스), 14-20 J/cm ² (하지, 등)
– 반복률: 10 ~ 15Hz (표준), 6 ~ 10Hz (피부 타입 V)
– 겹치는 패스 수: 30% 겹치는 양방향 패스 2-4개
– 표피 보호: 통합 사파이어 플레이트를 통해 -4°C까지 동적 냉각, 피부 유형 IV-V에 대해 차가운 초음파 젤 적용

혈관 클리어런스 – 고정 모드- 스팟 사이즈: 6mm 원형 (전용 어댑터)
– Fluence: 80-120 J/cm ² (short pulse width 6-10 ms); 50-70 J/cm ² (long pulse width 30-50 ms)
– 주파수: 싱글 샷 또는 낮은 반복 (1-2 Hz)
– 종점: 즉각적인 자반증 또는 혈관 블랜칭, 동일한 세션 내에서 중복 방지

여드름 치료 프로토콜
– 파장: 755nm (피지선 표적화) 또는 808nm
– 플루언스: 6-10 J/cm ² (통증이 없는 임계값)- 펄스 폭: 30 ~ 50ms (큐티박테리움 여드름 및 혈구에 대한 선택적 열 손상)
– 주파수: 활성 병변을 통한 8 ~ 12Hz 동작 중 스캐닝, 3주 세션 초기 주기

치료 후 관리
국소 소염제 (코르티코스테로이드 또는 알로에 베라) 를 도포하십시오. 4주 동안 엄격한 광보호 SPF 50. 일과성 홍반 및 여포 주위 부종은 2-48시간 내에 해결됩니다. 더 어두운 피부 유형 (V) 의 경우, 8 J/cm ² 에서 테스트 지점을 수행하고 48시간 동안 관찰하십시오.Selective Photothermolysis Architecture Reference Document: High-Frequency In-Motion Diode Laser details

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